In der Chipherstellung, insbesondere im Bereich der Herstellung von Chips mit hochkomplexen Leiterbahnen im Nanometerbereich, wird eine lückenlose Reinheit der gesamten Wertschöpfungskette immer wichtiger. Besonders herausfordernd ist die Reinigung der FOUP-Behälter, die für kommende Chipgenerationen noch anspruchsvollere Reinheitsanforderungen erfüllen müssen. Aktuelle Reinigungssysteme stoßen hierbei an ihre Grenzen und erfordern einen hohen Aufwand, um den Anforderungen gerecht zu werden. Die GSEC GmbH hat daher ein innovatives Reinigungssystem entwickelt, das auf Patenten basiert und die zukünftigen Anforderungen nicht nur erfüllen, sondern auch übertreffen soll.
Besonders innovativ ist der patentierte Ansatz zur separierten Reinigung der Behälteroberflächen. Hierdurch kann eine gezieltes Reinigungsverfahren aus deionisiertem Wasser und reiner Druckluft angewendet werden. Das Resultat ist neben einem geringeren Ressourceneinsatz auf einer kleinere Anlagenfläche, ein höherer Durchsatz bei gleichzeitig hochwertigeren Reinheitsergebnissen. Das mehrfach patentierte System überbietet somit langfristig den aktuellen Stand des anspruchsvollen Wettbewerbs der Halbleiterindustrie.
Gefördert wurde dieses Vorhaben mithilfe der Spitzmüller AG durch die Forschungszulage.
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