Firma AIXTRON SE

Furukawa in Japan setzt auf AIXTRONs MOCVD-Technologie zur Herstellung optoelektronischer Bauelemente

AIXTRON SE (FSE: AIXA), ein weltweit führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, hat einen Auftrag über eine AIX 2800G4 MOCVD-Anlage von FURUKAWA FITEL OPTICAL DEVICE CO. (FFOD), einem in Japan ansässigen Hersteller von Verbindungshalbleitern, erhalten. Die Anlage wird für die Entwicklung und Produktion von optoelektronischen Bauelementen auf der Basis Weiterlesen…

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AIXTRON bringt die G10‑SiC 200 mm Produktlösung der nächsten Generation für Siliziumkarbid-Epitaxie auf den Markt

AIXTRON SE hat seine neue G10-SiC 200 mm-Anlage für die Herstellung von Siliziumkarbid-Bauelementen („SiC“) der neuesten Generation auf 150/200 mm SiC-Wafern vorgestellt. Dieses Hochtemperatur-CVD-System, das die Innovation auf die nächste Stufe hebt, wurde gerade auf der Internationalen Konferenz für Siliziumkarbid und verwandte Materialien (ICSCRM) angekündigt, die derzeit in Davos, Schweiz, Weiterlesen…

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AIXTRON: Starke Auftragslage – Weiter voll auf Wachstumskurs

Die AIXTRON SE (FSE: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6), ein führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, verzeichnete im zweiten Quartal 2022 den höchsten Auftragseingang seit 2011, getragen durch eine hohe Nachfrage aus nahezu allen adressierten Endmärkten. Die anhaltend hohe Nachfrage insgesamt, aber insbesondere die wachsende Nachfrage nach Anlagen zur Produktion effizienter Weiterlesen…

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AIXTRON CCS MOCVD-Anlage für die University of Texas in Austin zur Herstellung von Galliumoxid-Leistungselektronik

AIXTRON SE (FSE: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6), weltweit führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, gab heute bekannt, dass sie eine neue AIXTRON Close Coupled Showerhead (CCS)-Beschichtungsanlage an die University of Texas at Austin, Microelectronics Center (MRC), Department of Electrical and Computer Engineering, liefern wird. Die hochmoderne MOCVD-Beschichtungsanlage ist so konfiguriert, Weiterlesen…

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Virtuelle Hauptversammlung 2022

Die Aktionärinnen und Aktionäre der AIXTRON SE (FSE: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6), einem weltweit führenden Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, nahmen heute sämtliche Beschlussvorlagen an, die Vorstand und Aufsichtsrat auf der diesjährigen 25. ordentlichen Hauptversammlung präsentierten. Mit großer Mehrheit haben sie die Mitglieder des Vorstands und des Aufsichtsrats für das Weiterlesen…

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AIXTRON baut Marktführerschaft bei MOCVD-Anlagen aus

AIXTRON SE (FSE: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6), weltweit führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, gab heute bekannt, dass AIXTRON seinen Marktanteil bei MOCVD im Jahr 2021 ausbauen konnte und somit der größte Anbieter von MOCVD-Anlagen[2] weltweit ist. Das Marktforschungsinstitut Gartner hat ermittelt, dass AIXTRON einen 75%-Anteil des Marktes innehatte, während Weiterlesen…

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AIXTRON liefert Depositionsanlagen für die Spitzenforschung an das Micron Center for Materials Research

AIXTRON SE (FSE: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6), ein führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, gab heute bekannt, dass AIXTRON Ltd., eine Tochtergesellschaft der AIXTRON SE, eine Depositionsanlage des Typs Close Coupled Showerhead® Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (CCS® MOCVD) für Verbindungshalbleitermaterialien an die Boise State University liefern wird. Die CCS® 3×2-Anlage Weiterlesen…

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AIXTRON: Hohe Nachfrage aus allen Endmärkten

Die AIXTRON SE (FSE: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6), ein führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, verzeichnet zum Jahresstart weiterhin eine hohe Nachfrage aus allen adressierten Endmärkten. Im Jahresvergleich konnten im ersten Quartal des Geschäftsjahres 2022 sowohl Auftragseingang als auch Umsatzerlöse, Bruttoergebnis und Nettoergebnis teils erheblich gesteigert werden. Vor dem Hintergrund Weiterlesen…

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AIXTRON: Junge Aktien aus mit separater ISIN/WKN aus Aktienoptionsprogramm

AIXTRON SE (FSE: AIXA), ein führender Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, ermöglicht Mitarbeitern über Aktienoptionsprogramme die Möglichkeit einer Beteiligung am Grundkapital der Gesellschaft. Gemäß den Bedingungen des Aktienoptionsprogramms 2012 können berechtigte Mitarbeiter derzeit Aktienoptionen zu Ausübungspreisen zwischen EUR 13,14 und EUR 14,01 ausüben. Die daraus entstehenden so genannten "jungen Weiterlesen…

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